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J-GLOBAL ID：200902276625040873   整理番号：09A0646186

再加工可能スピンオン三層材料: 製造可能性のための溶液と再加工

Reworkable Spin-on Trilayer Materials: Optimization of Rework Process and Solutions for Manufacturability

著者 (15件)： ZHANG Ruzhi (AZ Electronic Materials, NJ) ,  TIMKO Allen G. (AZ Electronic Materials, NJ) ,  ZOOK John (AZ Electronic Materials, NJ) ,  WEI Yayi (AZ Electronic Materials, NJ) ,  PYLNEVA Lyundmila (AZ Electronic Materials, NJ) ,  LI Chenghong (AZ Electronic Materials, NJ) ,  WU Hengpeng (AZ Electronic Materials, NJ) ,  RAHMAN Dalil (AZ Electronic Materials, NJ) ,  MCKENZIE Douglas S. (AZ Electronic Materials, NJ) ,  ANYADIEGWU Clement (AZ Electronic Materials, NJ) ,  LU Ping-Hung (AZ Electronic Materials, NJ) ,  NEISSER Mark (AZ Electronic Materials, NJ) ,  DAMMEL Ralph (AZ Electronic Materials, NJ) ,  BRADBURY Ron (AZ Electronic Materials, NJ) ,  LEE Timothy (AZ Electronic Materials, NJ)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7273  号： Pt.2  ページ： 72732O.1-72732O.12  発行年： 2009年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 32nm以下のノードの高開口数液浸リソグラフィー用の三層膜の開発と研究が進んでいる。スピンオンSi裏面反射防止膜(BARC)のための,反射制御とパターン転写の二重機能を満たす混成材料が必要とされる。本研究ではウエハプロセス前工程と後工程における三層材料用の再加工可能な溶液の同定を試みた。希釈HF,ピラニア,低k両立性ストリッパを含む再加工溶液について広範に調べた。溶液の混合比と処理条件の最適化を系統的に調べた。再加工後の欠陥を詳細に検査し,製造可能性を確認した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  反射防止膜 ,  パターン転写 ,  材料 ,  *回路パターン形成 ,  半導体プロセス ,  マスク ,  再加工 ,  *多層膜 ,  ストリッピング
準シソーラス用語： *液浸リソグラフィー ,  裏面反射防止膜 ,  混成材料 ,  ハイブリッド材料 ,  ハードマスク

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 製造可能性 ,  溶液 ,  再加工