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J-GLOBAL ID：200902277079181238   整理番号：09A0978010

PLD-ポストアニール法により成膜したSrZrO₃薄膜の結晶構造

著者 (8件)： 佐多教子 (東北大) ,  田村奨 (東北大) ,  野原佑太 (東北大) ,  鶴井隆雄 (東北大) ,  樋口透 (東京理大) ,  長尾祐樹 (東北大) ,  井口史匡 (東北大) ,  湯上浩雄 (東北大)
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集  (電気化学合同秋季大会講演要旨集)
巻： 2009  ページ： 170  発行年： 2009年09月10日 
JST資料番号： X0038A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジルコニウム酸塩 ,  *ストロンチウム化合物 ,  レーザ蒸着 ,  *エピタクシー ,  後熱処理 ,  *結晶構造 ,  *電子構造 ,  バンドギャップ ,  イオンエッチング ,  多結晶 ,  ナノ結晶 ,  結晶成長 ,  結晶化 ,  軟X線 ,  X線吸収スペクトル ,  透過型電子顕微鏡 ,  蒸着膜 ,  パルスレーザ蒸着
準シソーラス用語： PLD法 ,  イオンミリング ,  エピタキシャル成長

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： PLD ,  ポストアニール ,  成膜 ,  薄膜 ,  結晶構造