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J-GLOBAL ID：200902277645356580   整理番号：03A0874195

くえん酸を用いたゾル-ゲル過程により調製されたNi/SiO₂

Ni/SiO₂ prepared by sol-gel process using citric acid

著者 (5件)： TAKAHASHI R (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SATO S (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SODESAWA T (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SUZUKI M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  ICHIKUNI N (Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 66  号： 2/3  ページ： 197-208  発行年： 2003年12月05日 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： くえん酸を用いたゾル-ゲル過程により調製されたNi/SiO<...

シソーラス用語： 細孔径分布 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 触媒の調製  (CB06110P) ,  触媒操作  (XE01050T)

物質索引 (2件)： くえん酸 ,  テトラプロピルアンモニウム

タイトルに関連する用語 (6件)： くえん酸 ,  ゾル-ゲル ,  過程 ,  調製 ,  Ni ,  SiO2