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J-GLOBAL ID：200902277772158711   整理番号：07A0501295

チタンアノード酸化皮膜成長時のフッ化物イオンの高速移動と界面濃縮

著者 (3件)： 幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院) ,  清水健一 (慶応大 経済)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 115th  ページ： 169  発行年： 2007年02月22日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *チタン ,...
準シソーラス用語： *陽極酸化 ,...

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分類 (1件)： 化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (7件)： チタン ,  アノード酸化皮膜 ,  成長 ,  フッ化物イオン ,  高速移動 ,  界面 ,  濃縮