文献

J-GLOBAL ID：200902278139776828   整理番号：03A0161613

電子線励起プラズマCVDで作製したダイヤモンド状炭素膜の応力と構造特性

Stress and structural properties of diamond-like carbon films deposited by electron beam excited plasma CVD.

著者 (4件)： BAN M (Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN) ,  HASEGAWA T (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  FUJII S (Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN) ,  FUJIOKA J (Kawasaki Heavy Ind., Ltd., Chiba, JPN)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 12  号： 1  ページ： 47-56  発行年： 2003年01月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CH₄とC₆H<...

シソーラス用語： プラズマCVD ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0161613&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=W0498A") }}

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (2件)： ベンゼン ,  メタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子線励起 ,  プラズマCVD ,  作製 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  応力 ,  構造特性