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J-GLOBAL ID：200902278410285754   整理番号：07A1007764

有磁場マルチホロー放電プラズマCVD装置を用いたクラスターフリーa-Si:H薄膜の堆積

Deposition of clusterless a-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD reactor with magnets

著者 (5件)： NAKAMURA William Makoto (Kyushu Univ.) ,  SATO Hiroshi (Kyushu Univ.) ,  MIYAHARA Hiroomi (Kyushu Univ.) ,  KOGA Kazunori (Kyushu Univ.) ,  SHIRATANI Masaharu (Kyushu Univ.)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 1  ページ： 465  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 磁場 ,  放電プラズマ ,  CVD装置 ,  クラスター ,  Si ,  薄膜 ,  堆積