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J-GLOBAL ID：200902278956905567   整理番号：07A0854182

水素化ポリシランベース液体材料を用いた液体処理SiO₂膜

Solution-Processed SiO₂ Films Using Hydrogenated Polysilane Based Liquid Materials

著者 (8件)： TANAKA Hideki (Seiko Epson Corp., Nagano, JPN) ,  AOKI Takashi (Seiko Epson Corp., Nagano, JPN) ,  YUDASAKA Ichio (Seiko Epson Corp., Nagano, JPN) ,  SHIMODA Tatsuya (Seiko Epson Corp., Nagano, JPN) ,  FURUSAWA Masahiro (Seiko Epson Corp., Nagano, JPN) ,  IWASAWA Haruo (JSR Corp., Ibaraki, JPN) ,  WANG Daohai (JSR Corp., Ibaraki, JPN) ,  MATSUKI Yasuo (JSR Corp., Ibaraki, JPN)
資料名： Digest of Technical Papers. SID International Symposium (Society for Information Display)  (Digest of Technical Papers. SID International Symposium (Society for Information Display))
巻： 38  号： Book 1  ページ： 188-191  発行年： 2007年05月 
JST資料番号： E0907A  ISSN： 0097-966X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水素化 ,  ポリシラン ,  液体材料 ,  液体処理 ,  SiO2