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J-GLOBAL ID：200902279115817970   整理番号：07A1222913

ダイ対ウエハ様画像マスク実時間検査のための新しいアルゴリズム

A New Algorithm for Die-to-Wafer-like Image Mask Inspection in Real Time

著者 (4件)： TAKADA Akira (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  TAKADA Akira (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN) ,  TOJO Toru (Topcon Corp., Tokyo, JPN) ,  SHIBUYA Masato (Tokyo Polytechnic Univ., Kanagawa, JPN)
資料名： Optical Review  (Optical Review)
巻： 14  号： 6  ページ： 384-394  発行年： 2007年12月01日 
JST資料番号： L2272A  ISSN： 1340-6000  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マスクの欠陥検査法を正しく評価するには欠陥プリント性の変化の...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...
準シソーラス用語： 位相シフトマスク

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分類 (2件)： 光学情報処理  (BD03060T) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

引用文献 (12件)：

• KIM, B. G. Proc. SPIE. 2002, 4754, 517
• PANG, L. Proc. SPIE. 2003, 5256, 461
• HSU, L. T. H. Proc. SPIE. 2004, 5567, 36
• VALLIUS, T. J. Opt. Soc. Am. A. 2002, 19, 1129
• KETTUNEN, V. J. Opt. Soc. Am. A. 2001, 18, 1257

タイトルに関連する用語 (6件)： ダイ ,  ウエハ ,  マスク ,  実時間 ,  検査 ,  アルゴリズム