研究者
J-GLOBAL ID:200901039256282943
更新日: 2024年01月17日
東條 徹
トウジョウ トオル | Tojo Toru
研究分野 (7件):
眼科学
, 計測工学
, ロボティクス、知能機械システム
, 機械力学、メカトロニクス
, 機械要素、トライボロジー
, 設計工学
, 材料力学、機械材料
研究キーワード (4件):
光学検査技術
, 電子ビーム応用検査技術
, マスク欠陥検査技術
, 電子ビーム描画技術
競争的資金等の研究課題 (3件):
2005 - 2008 高分解能眼底顕微鏡
2001 - 2004 次世代マスク欠陥検査装置技術
1996 - 2004 電子ビーム描画装置技術
MISC (27件):
Akira Takada, Toru Tojo, Masato Shibuya. Optimum optics for die-to-wafer-like image mask inspection. OPTICAL REVIEW. 2009. 16. 2. 59-65
Akira Takada, Toru Tojo, Masato Shibuya. Coherence control of illumination optics in mask inspection systems. JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS. 2008. 7. 4. 043010-1~043010-8
Akira. Takada, Toru. Tojo, Masato. Shibuya. A New Algorithm for Die-to-wafer-like Image mask Inspection in Real Time, , Vol., No., , . OPTICAL REVIEW. 2007. 14. 6. 384-394
T Tojo, R Hirano, H Inoue, S Imai, N Yoshioka, K Ohira, DH Chung, T Terasawa. Mask inspection technology for 65nm (hp) technology node and beyond. Characterization and Metrology for ULSI Technology 2005. 2005. 788. 457-467
T Tojo, R Hirano, H Tsuchiya, J Oaki, T Nishizaka, Y Sanada, K Matsuki, Isomura, I, R Ogawa, N Kobayashi, et al. Advanced mask inspection optical system (AMOS) using 198.5nm wavelength for 65nm (hp) node and beyond - System development and initial state D/D inspection performance. 24TH ANNUAL BACUS SYMPOSIUM ON PHOTOMASK TECHNOLOGY, PT 1 AND 2. 2004. 5567. 1011-1023
もっと見る
特許 (25件):
パターン欠陥検査装置
パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置
パターン欠陥検査装置
荷電ビーム描画装置および方法
パターン評価装置およびパターン評価方法
もっと見る
書籍 (1件):
トライボロジ(PRINCIPLE OF TRIBOLOGY, J.ホーリング著)、松永正久 監訳(松本有史、佐々木貞夫、河内康伸、東條徹、杉原和佳)、
近代科学社 1984
学位 (1件):
半導体製造装置における超精密位置決め技術に関する研究 (東京大学)
経歴 (1件):
(株)トプコン 総務 特別嘱託
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM