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J-GLOBAL ID:200902279178597074   整理番号:07A0087645

研削工程でのSiウエハにおける構造転移

Study on Structure Transformation of Si Wafer in Grinding Process
著者 (4件):
資料名:
巻: 329  ページ: 373-378  発行年: 2006年 
JST資料番号: D0744C  ISSN: 1013-9826  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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ダイヤモンド研削ホイールを用いて8インチSiウエハについて種...
シソーラス用語:
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  非晶質半導体の構造 
タイトルに関連する用語 (3件):
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