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J-GLOBAL ID:200902279889565841   整理番号:07A0802361

ウエハ融解AlGaAs/GaAs/GaNヘテロ接合バイポーラトランジスタにおける利得劣化機構

Gain degradation mechanisms in wafer fused AlGaAs/GaAs/GaN heterojunction bipolar transistors
著者 (5件):
資料名:
巻: 91  号:ページ: 063502-1-063502-3  発行年: 2007年08月06日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ウエハ融解プロセスで使用されるものと同じ高温アニーリング条件...
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分類 (3件):
分類
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トランジスタ  ,  13-15族化合物を含む半導体-半導体接合  ,  半導体薄膜 

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