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J-GLOBAL ID：200902280437276654   整理番号：09A0296863

HIPIMS電源供給の歴史的発展:実験室から生産まで

The Historical Development of HIPIMS Power Supplies: From Laboratory To Production

著者 (4件)： OCHS D. (Huettinger Elektronik GmbH, Freiburg, DEU) ,  OZIMEK P. (Huettinger Electronic Sp.z.O.O., Zielonka, POL) ,  EHIASARIAN A. (Sheffield Hallam Univ., Sheffield, GBR) ,  SPENCER R. (Alacritas Consultancy Ltd., Markfield, GBR)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 51st  ページ： 288-292  発行年： 2008年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HIPIMS)電源供給の開発の歴史,発展の経過をまとめた。HIPIMS電源の開発はロシアを中心に展開され,1974年Malkinの研究にさかのぼる。この装置は磁場を使用せず,圧力は高く,蒸着に使用する装置ではなく,その特徴を示した。1981年にはTyuryukanovがパルス放電に磁気閉込めを導入し,プラズマの研究を報告した。最初のHIPIMSコーティング装置はMozogrinが報告し,Cu,Ti,Mo,ステンレス鋼などのスパッタリングを行った。西欧での最初の報告は1999年,Festisovによって行われ,ここでは電流-電圧とプラズマ領域を示した。工業的な規模の電源供給は2002年にEhiasarianによって報告された。2006年以降,HIPIMSスパッタリングは商用化された。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  パルス発生器 ,  出力 ,  *電力供給 ,  歴史 ,  パルス放電 ,  磁場閉込め ,  蒸着 ,  被覆 ,  電流電圧特性 ,  波形 ,  LC回路 ,  高出力 ,  電流波形 ,  *技術動向
準シソーラス用語： インパルス電圧発生器 ,  電源供給 ,  *開発動向 ,  コーティング ,  電圧波形

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： HiPIMS ,  電源供給 ,  歴史 ,  発展 ,  実験