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J-GLOBAL ID:200902280470390993   整理番号:09A0356846

分子線エピタクシーによって成長させたAlN薄膜の作製と急速熱アニーリング

Preparation and rapid thermal annealing of AlN thin films grown by molecular beam epitaxy
著者 (8件):
資料名:
巻: 149  号: 17-18  ページ: 715-717  発行年: 2009年05月 
JST資料番号: H0499A  ISSN: 0038-1098  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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分類 (1件):
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半導体薄膜 

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