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J-GLOBAL ID：200902281484423998   整理番号：05A0494966

伝導性ナノパターン形成のための前駆体高分子膜のナノリソグラフィー電解重合

Nanolithographic Electropolymerization of a Precursor Polymer Film to Form Conducting Nanopatterns
著者 (3件)：
JEGADESAN Subbiah

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(National Univ. Singapore, SGP)

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ADVINCULA Rigoberto C

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(Univ. Houston, TX, USA)

Univ. Houston, TX, USA について

, 
VALIYAVEETTIL Suresh

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(National Univ. Singapore, SGP)

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資料名：
Advanced Materials  (Advanced Materials)

Advanced Materials について


巻： 17  号： 10  ページ： 1282-1285  発行年： 2005年05月13日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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AFMチップを用いたナノリソグラフィー電解重合に基づくポリビ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ナノメータ加工

ナノメータ加工 について

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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*橋架け重合

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分類 (3件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

,  原子・分子のクラスタ 
(BH09030O)

原子・分子のクラスタ について

,  高分子固体の物理的性質 
(CG02024U)

高分子固体の物理的性質 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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ナノパターン形成

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前駆体

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高分子膜

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ナノリソグラフィー

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電解重合

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