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J-GLOBAL ID：200902281652181032   整理番号：09A0789614

電子ビーム誘起パターン形成工程による無鉛強誘電マイクロ構造の製作

Fabrication of Lead-Free Ferroelectric Microstructures by Electron-Beam-Induced Patterning Process

著者 (3件)： FUJII Tadashi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  HIRABAYASHI Sugure (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  ADACHI Masatoshi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
資料名： Ferroelectrics  (Ferroelectrics)
巻： 383  ページ： 756-760,867-868  発行年： 2009年06月 
JST資料番号： D0777A  ISSN： 0015-0193  CODEN： FEROA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強誘電体を通常の光リソグラフィーでパターン形成しようとすると側壁の損傷が無視できなくなる。無鉛強誘電材料であるBi₄Ti₃O₁₂(BIT)とBaTiO₃(BT)の30nmから50μmの大きさの円形ドットを走査電子顕微鏡(SEM)ベースの電子ビームリソグラフィー系を用いた電子ビーム誘起ミクロパターン形成工程により作った。得たマイクロドットのキャラクタリゼーションを光学顕微鏡と原子間力顕微鏡で行った。BITおよびBTマイクロドットの圧電特性を圧電応答走査力顕微鏡で調べたが,ドットはマイクロパターンの低い結晶性のために圧電性を示さなかった。電子ビーム条件についての一層の研究が強誘電性を備えたマイクロ構造の製作のためには必要である。

シソーラス用語： 電子ビーム ,  *パターン形成 ,  強誘電性 ,  *チタン酸バリウム ,  走査電子顕微鏡 ,  キャラクタリゼーション ,  光学顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  力顕微鏡 ,  微細構造 ,  *チタン酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  誘電体薄膜
準シソーラス用語： *チタン酸ビスマス ,  圧電応答力顕微鏡 ,  無鉛材料

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム ,  誘起 ,  形成工程 ,  マイクロ構造 ,  製作