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J-GLOBAL ID：200902283940649319   整理番号：09A0528085

プラズモン増強効果を利用したナノ空間における光化学反応

Spatially selective photochemical reaction in optical field enhanced by nanoparticle plasmons

著者 (6件)： 高畠聡章 ,  上野貢生 ,  西島善明 ,  MIZEIKIS Vygantas ,  JUODKAZIS Saulius ,  三澤弘明
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 89th  号： 1  ページ： 243  発行年： 2009年03月13日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 我々は,ナノギャップ金構造に誘起されるプラズモン増強効果を利用して,ナノメートルの微小空間にフォトレジストの2光子吸収過程を介した光化学反応を実現することが可能であることを明らかにした。本発表では,ナノギャップの設計,及びプラズモン共鳴バンドと入射レーザー波長との相関がプラズモン増強効果に及ぼす影響について,形成されたフォトレジストのナノパターンを解析することにより詳細に検討を行ったので報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： プラズモン ,  強化 ,  空間 ,  *光化学反応 ,  間隙 ,  金 ,  単位 ,  *フォトレジスト ,  二光子過程 ,  二光子吸収 ,  プラズマ共鳴 ,  入射 ,  レーザ ,  波長 ,  微粒子 ,  レジスト ,  転写 ,  微細加工 ,  基板 ,  フェムト秒 ,  露光 ,  現像 ,  走査電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  光開始剤 ,  時間依存性
準シソーラス用語： サイズ分布 ,  ナノギャップ ,  ナノパターン ,  ナノメータ ,  ナノ空間 ,  ポジ型レジスト ,  増強 ,  表面プラズモン共鳴

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズモン ,  増強 ,  ナノ空間 ,  光化学反応