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J-GLOBAL ID：200902284900583559   整理番号：09A0646203

ラインエッジ粗さの形成過程における高分子動力学のメソ尺度のシミュレーション

Meso-scale simulation of the polymer dynamics in the formation process of line-edge roughness

著者 (2件)： MORITA Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  DOI Masao (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7273  号： Pt.2  ページ： 727337.1-727337.8  発行年： 2009年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線やArFレジストでは,ラインエッジ粗さ(LER)が高分解能を得るための重要な問題である。散逸粒子動力学法に基づくメソ尺度のシミュレーションを用いて,ラインエッジの形成過程を調べた。リソグラフィー工程のシミュレーションモデルを開発し,高分子鎖の動力学を観測した。LER問題の最良の解は可溶性と不溶性の高分子の鋭く均一な界面であった。広く均一な界面では粗いエッジが見られ得る。高分子鎖はLERの重要な起源の一つであることを示した。

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  *表面粗さ ,  フォトレジスト ,  *回路パターン形成 ,  半導体プロセス ,  高分子鎖 ,  *散逸系 ,  *動力学 ,  粒子 ,  計算機シミュレーション ,  モデリング ,  界面 ,  固固界面 ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： *ラインエッジ粗さ ,  *散逸粒子動力学

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ラインエッジ粗さ ,  形成過程 ,  分子動力学 ,  尺度 ,  シミュレーション