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J-GLOBAL ID：200902285471023244   整理番号：08A0729219

半導体リソグラフィー装置の歪調整の最適化

Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment

著者 (3件)： FUKAGAWA Youzou (CANON INC. Utsunomiya Optical Products Operations) ,  SHINANO Yuji (Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.) ,  NAKAMORI Mario (Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.)
資料名： Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web)  (Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web))
巻： 2  号： 3  ページ： 378-384 (J-STAGE)  発行年： 2008年 
JST資料番号： U0027A  ISSN： 1881-3054  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論では,半導体リソグラフィー装置のレンズの歪調整問題について検討した。レンズ歪の調整の目的は,最大歪の絶対値を最小化することにある。従来は,最小二乗法に基づく近似解法が用いられてきた。最近,逐次最小二乗法に基づく重み付け近似解法が提案された。しかし,この方法による計算では,長時間を要することがしばしばであるため,より良い計算法が求めれていた。本論では,線形計画法(LP)に基づく厳密解法を用いて最大歪の絶対値を最小化する方法を提案した。現在,LPソルバを用いれば,LP研究の進歩により高速で最適解が得られる。提案手法により得られた20例の最適解は,最小二乗法に基づく解法の場合よりも27~29%精度の良いパラメータ設定を提供した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *リソグラフィー ,  *レンズ ,  *歪補正 ,  最適化 ,  最適設計 ,  パラメータ推定 ,  線形計画法 ,  厳密解 ,  改変

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (6件)：

• (1) Flack, W. W., et al., Efficient overlay optimization of stepper correctables, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X Proceedings, SPIE 2725, 5 (1996), pp. 400-413
• (2) Aoki, A., Method for Correcting Alignment Error in Aligner and Aligner Using it, JP10-022190, Patent journal, (1998)
• (3) Ignizio, J. P., Linear Programming in Single- & Multiple-Objective Systems, Prentice-Hall Inc., (1982)
• (4) Mori, M., and Matsui, T., Operations Research, Management system engineering library 8, Asakura-Shoten, (2004), pp. 78-79, (in Japanese)
• (5) Konno, H., Linear Programming, JUSE Press. Ltd., (1987), (in Japanese)

タイトルに関連する用語 (3件)： 半導体リソグラフィー ,  歪 ,  最適化