文献

J-GLOBAL ID：200902286349435945   整理番号：03A0506006

Cu/Si接触系におけるナノ結晶TiZrN膜の拡散障壁特性

Diffusion barrier properties of nano-crystalline TiZrN films in Cu/Si contact systems

著者 (4件)： TAKEYAMA M B (Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN) ,  ITOI T (Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN) ,  AOYAGI E (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  NOYA A (Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 216  号： 1/4  ページ： 181-186  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ結晶粒サイズが2~10nmで,抵抗率が約90μΩcmの単...

シソーラス用語： *銅 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0506006&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0707B") }}

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (4件)： Cu ,  Si ,  ナノ結晶 ,  拡散障壁