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J-GLOBAL ID：200902286422557981   整理番号：04A0021105

Ar-O2およびN2-O2マイクロ波フローイング後段放電における酸素原子の製造

Production of O atoms in Ar-O2 and N2-O2 microwave flowing post-discharges
著者 (3件)：
RICARD A

RICARD A について

(CPAT-UPS, Toulouse, FRA)

CPAT-UPS, Toulouse, FRA について

, 
MONNA V

MONNA V について

(CPAT-UPS, Toulouse, FRA)

CPAT-UPS, Toulouse, FRA について

, 
MOZETIC M

MOZETIC M について

(Inst. of Surface Engineering, Ljubljana, SVN)

Inst. of Surface Engineering, Ljubljana, SVN について


資料名：
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

Surface & Coatings Technology について


巻： 174/175  ページ： 905-908  発行年： 2003年09月 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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Ar-O<sub>2</sub>およびN<sub>2</su...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*混合気体

混合気体 について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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FOCP

FOCP について


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分類 (1件)：
分類
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気体放電 
(BJ03020T)

気体放電 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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Ar

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O2

O2 について

, 
N2

N2 について

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マイクロ波

マイクロ波 について

, 
放電

放電 について

, 
酸素原子

酸素原子 について


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