193nmフォトレジスト用の良好に制御された分子量と小さい多分散性を有する共重合体

LEE T-Y; YU C-Y; HSU M-Y; HAYASHI R; IWAI T; CHEN J-H; HO B-C

文献

J-GLOBAL ID：200902286787259718 整理番号：03A0509065

193nmフォトレジスト用の良好に制御された分子量と小さい多分散性を有する共重合体

Copolymers with Well-Controlled Molecular Weight and Low Polydispersity for 193 nm Photoresists

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=03A0509065&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0509065&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

著者 (7件)： , , , , , ,
資料名：
巻： 16 号： 4 ページ： 483-487 発行年： 2003年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

ポリアクリル酸エステルベースのフォトレジストを制御/リビング...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0509065&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

共重合 , 固体デバイス製造技術一般

引用文献 (7件)：

1. Roy, D.; Basu, P.K.; Eswaran, S.V. Resonance 2002, 44.
2. Perrin, D.D. & Armarego, W.L.F., Purification of Laboratory Chemical, 3<SUP>rd</SUP> Ed., Pergamon Press, 1993.
3. International Pat. Appl. PCT/US97/12540 WO9801478, invs.: Le, T.P.T.; Moad, G.; Rizzardo, E.; Thang, S.H. Chem. Abstr. 1998, 128, 115394.
4. Rizzardo, E.; Chiefari, J.; Chong, B.Y.K.; Ercole, F.; Krstina, J.; Jeffery, J.; Le, T.P.T.; Mayadunne, R.T.A.; Meijs, G.F.; Moad, C.L.; Thang, S.H. Macromolecular Symposia 1999, 143, 291.
5. Goto, A.; Sato, K.; Tsujii, Y.; Fukuda, T.; Moad, G.; Rizzardo, E.; Thang, S.H. Macromolecules 2001, 34, 402.

, , ,

前のページに戻る