パルス及び連続rf励起を用いたc-C<sub>4</sub>F<sub>8</sub>からのフルオロカーボン薄膜のプラズマ堆積

LABELLE C B; OPILA R; KORNBLIT A

文献

J-GLOBAL ID：200902288292675092 整理番号：05A0192610

パルス及び連続rf励起を用いたc-C₄F₈からのフルオロカーボン薄膜のプラズマ堆積

Plasma deposition of fluorocarbon thin films from c-C₄F₈ using pulsed and continuous rf excitation

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巻： 23 号： 1 ページ： 190-196 発行年： 2005年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

c-C₄F₈及び...

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有機化合物の薄膜 , 光物性一般

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パルス及び連続rf励起を用いたc-C4F8からのフルオロカーボン薄膜のプラズマ堆積

パルス及び連続rf励起を用いたc-C₄F₈からのフルオロカーボン薄膜のプラズマ堆積