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J-GLOBAL ID：200902288914766902   整理番号：06A0739215

マイクロ波励起非平衡大気圧プラズマによるSiO2超高速エッチング

Ultrahigh-Rate Etching of SiO2 Using Microwave Excited Non-equilibrium Atmospheric Pressure Plasma
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著者 (6件)：
YAMAKAWA Koji

YAMAKAWA Koji について

(Nagoya Univ., Nagoya)

Nagoya Univ., Nagoya について

, 
HORI Masaru

HORI Masaru について

(Nagoya Univ., Nagoya)

Nagoya Univ., Nagoya について

, 
GOTO Toshio

GOTO Toshio について

(Nagoya Univ., Nagoya)

Nagoya Univ., Nagoya について

, 
DEN Shoji

DEN Shoji について

(Katagiri Engineering Co., Ltd., Kawasaki)

Katagiri Engineering Co., Ltd., Kawasaki について

, 
KATAGIRI Toshirou

KATAGIRI Toshirou について

(Katagiri Engineering Co., Ltd., Kawasaki)

Katagiri Engineering Co., Ltd., Kawasaki について

, 
KANO Hiroyuki

KANO Hiroyuki について

(NU EcoEngineering Co., Ltd., Aichi)

NU EcoEngineering Co., Ltd., Aichi について


資料名：
プラズマ科学シンポジウム/プラズマプロセシング研究会プロシーディングス  (プラズマプロセシング研究会プロシーディングス)

プラズマ科学シンポジウム/プラズマプロセシング研究会プロシーディングス について


巻： 2004/21st  ページ： 290-291  発行年： 2004年01月28日 
JST資料番号： L4449A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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電気機械

電気機械 について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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FTIR【分光法】

FTIR【分光法】 について

,...
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分類 (1件)：
分類
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プラズマ応用 
(BJ02110K)

プラズマ応用 について

タイトルに関連する用語 (7件)：
タイトルに関連する用語
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マイクロ波

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励起

励起 について

, 
非平衡

非平衡 について

, 
大気圧プラズマ

大気圧プラズマ について

, 
SiO2

SiO2 について

, 
超高速

超高速 について

, 
エッチング

エッチング について


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