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J-GLOBAL ID：200902289396950504   整理番号：04A0649523

原料の低速溶解を用いたb-軸配向MFIゼオライト薄膜の調製

Preparation of b-Axis-Oriented MFI Zeolite Thin Films Using Slow Dissolution of Source Material

著者 (3件)： SEIKE T (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  MATSUDA M (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  MIYAKE M (Okayama Univ., Okayama, JPN)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 87  号： 8  ページ： 1585-1587  発行年： 2004年08月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イットリア安定化ジルコニア単結晶を基板とし,けい酸塩ガラス粒...

シソーラス用語： *ZSM-5 ,...
準シソーラス用語： シリカ

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (1件)： テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド

タイトルに関連する用語 (7件)： 原料 ,  低速 ,  溶解 ,  配向 ,  MFIゼオライト ,  薄膜 ,  調製