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J-GLOBAL ID：200902289827393640   整理番号：05A0849896

SSRMを用いたpoly-Si TFTのキャリア濃度分布評価

著者 (7件)： 山際優人 (大阪大 極限科学研究セ) ,  阿保智 (大阪大 極限科学研究セ) ,  若家冨士男 (大阪大 極限科学研究セ) ,  坂本孝雄 (三菱電機 先端技術総合研) ,  時岡秀忠 (三菱電機 先端技術総合研) ,  中川直紀 (三菱電機 先端技術総合研) ,  高井幹夫 (大阪大 極限科学研究セ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 66th  号： 2  ページ： 566  発行年： 2005年09月07日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜トランジスタ ,...

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分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  TFT ,  キャリア ,  濃度分布 ,  評価