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J-GLOBAL ID：200902290250878591   整理番号：03A0254978

高周波マグネトロンスパッタリングで成長させたZr/Ti比の異なるエピタキシャルPb(Zr,Ti)O₃膜の結晶学的特性評価

Crystallographic characterization of epitaxial Pb(Zr,Ti)O₃ films with different Zr/Ti ratio grown by radio-frequency-magnetron sputtering

著者 (6件)： KANNO I (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KOTERA H (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  WASA K (Yokohama City Univ., Yokohama, JPN) ,  MATSUNAGA T (Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN) ,  KAMADA T (Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN) ,  TAKAYAMA R (Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 93  号： 7  ページ： 4091-4096  発行年： 2003年04月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エピタキシャルPZT膜の結晶構造をZr/Ti比と結晶配向に関...

シソーラス用語： *エピタクシー ,...
準シソーラス用語： *PZT【鉛化合物】

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (9件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  成長 ,  Zr ,  Ti ,  エピタキシャル ,  Pb ,  O3 ,  結晶学 ,  特性評価