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J-GLOBAL ID：200902292610916409   整理番号：08A1175869

錫ターゲットを用いたレーザー生成極端紫外光源におけるデブリ発生の評価

Estimations of Debris Generation from Laser-Produced EUV Sources Using Tin Targets

著者 (1件)： 古河裕之 (レーザー技術総合研)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 36  号： 11  ページ： 742-746  発行年： 2008年11月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 極端紫外光源の実用化に向けて,4つの課題の克服が検討されて,現在,錫ターゲット+炭酸ガスターゲットの方式は主流になっている。ここでは,平板の錫ターゲットにNd:YAGレーザを照射した場合と,炭酸ガスレーザを照射した場合において,レーザの照射される方向(集光ミラーの方向)に放出されるデブリ量に関して,理論的定量的に評価を行なった。その結果,炭酸ガスレーザの場合,Nd:YAGレーザの場合に比べ大幅にデブリ粒子数密度が低減されている可能性が高いことが分かった。開発した統合シミュレーションコードを詳述し,シミュレーションで得られたデブリ発生の結果を考察した。

シソーラス用語： *紫外光源 ,  *レーザプラズマ ,  パルスレーザ照射 ,  ターゲット ,  スズ ,  砕屑堆積物 ,  炭酸ガスレーザ ,  *フォトリソグラフィー ,  YAGレーザ ,  集光 ,  反射鏡 ,  数密度 ,  シミュレーション ,  計算機コード ,  *EUV光源 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  デブリス ,  *極端紫外光源

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源  (BD07020D) ,  プラズマ中の電磁波  (BJ02032F)

引用文献 (10件)：

• 文部科学省リーディング・プロジェクト. 「極端紫外 (EUV) 光源開発等の先進半導体製造技術の実用化」平成15年度研究成果報告書. 2003
• 砂原. プラズマ核融合学会誌. 2007, 83, 920
• FURUKAWA, H. Proc. SPIE. 2004, 5448, 872
• ANISIMOV, S. I. Physics-Uspekhi. 2002, 45, 293
• LUK'YANCHUK, B. S. Proc. SPIE. 1999, 3618, 434

タイトルに関連する用語 (6件)： 錫 ,  ターゲット ,  レーザー ,  極端紫外光源 ,  デブリ ,  評価