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J-GLOBAL ID：200902293857872346   整理番号：06A0578324

HVMを目標にしたXeならびにSn燃料高出力ZピンチEUV光源の開発

Development of Xe- and Sn-fueled high-power Z-pinch EUV source aiming at HVM

著者 (16件)： TERAMOTO Yusuke (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  NIIMI Gohta (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  YAMATANI Daiki (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  JOSHIMA Yuki (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  BESSHO Kazunori (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  SHIRAI Takahiro (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  TAKEMURA Tetsu (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  YOKOTA Toshio (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  YABUTA Hironobu (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  PAUL Khokan C. (Ushio Inc.) ,  KABUKI Kiyoyuki (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  MIYAUCHI Koji (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  IKEUCHI Mitsuru (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  HOTTA Kazuaki (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  YOSHIOKA Masaki (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.) ,  SATO Hiroto (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6151  号： Pt.2  ページ： 615147.1-615147.8  発行年： 2006年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 幾つかの放電方式のなかでZピンチをプラズマ源として用いた。す...

シソーラス用語： 大量生産 ,...
準シソーラス用語： *EUV

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  X線技術  (BA02060D)

タイトルに関連する用語 (8件)： 目標 ,  Xe ,  Sn ,  燃料 ,  高出力 ,  Zピンチ ,  EUV光源 ,  開発