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J-GLOBAL ID：200902295068813532   整理番号：09A0594980

低化成電圧時のタンタルアノード酸化皮膜の誘電特性に及ぼす大気酸化皮膜の影響

著者 (4件)： 小宮山正造 (北大 工) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  泉知夫 (キャボットスーパーメタル) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 化学系学協会北海道支部冬季研究発表会講演要旨集
巻： 2009  ページ： 165  発行年： 2009年01月26日 
JST資料番号： L6025A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  *タンタル ,  誘電損失 ,  誘電性 ,  薄膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *化成皮膜

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： タンタル ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電特性 ,  大気 ,  酸化皮膜