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J-GLOBAL ID：200902295905306741   整理番号：08A0686919

ポリシラン-シリカナノ粒子ハイブリッド薄膜の作製と光学特性

Preparation of Polysilane/Silica Nano-particle Hybrid Thin Films and Their Optical Properties

著者 (6件)： 松川公洋 (大阪市立工業研究所) ,  松浦幸仁 (大阪市立工業研究所) ,  片山康治 (大阪電気通信大学工学部電子材料工学科) ,  西岡昇 (大阪電気通信大学工学部電子材料工学科) ,  力石真樹 (大阪府立大学大学院工学研究科) ,  内藤裕義 (大阪府立大学大学院工学研究科)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 65  号： 6  ページ： 440-444 (J-STAGE)  発行年： 2008年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 光機能性ポリメチルフェニルシラン(PMPS)とフェニル基やメチル基で表面修飾されたトルエン分散シリカナノ粒子(平均粒径13nm)を用いて,有機無機ハイブリッド薄膜を作製した.薄膜は,PMPSとシリカナノ粒子のトルエン溶液を石英やシリコン基板にスピンコートして形成した.ポリシラン/フェニル基修飾シリカナノ粒子ハイブリッド薄膜の紫外吸収スペクトルにおいて,PMPSのSi-Si結合に由来する吸収ピークの長波長シフトが認められた.この興味深い現象は,PMPSとシリカナノ粒子表面のフェニル基間でのπ-π相互作用で引き延ばされたSi-Si結合に起因するσ-共役長の増大によって起こっていると考えられる.また,少量のPMPSを含んだハイブリッド薄膜への紫外光照射および熱処理で,低屈折率を有するナノポーラスシリカ薄膜が得られた.(著者抄録)

シソーラス用語： *有機-無機ハイブリッド ,  *ポリシラン ,  屈折率 ,  薄膜 ,  ポリシラン重合体 ,  紫外吸収スペクトル ,  相互作用 ,  ナノ粒子 ,  アルキルベンゼン ,  二酸化ケイ素 ,  *シリカナノ粒子 ,  PMPS【重合体】
準シソーラス用語： シリカ ,  π-π相互作用 ,  スピンコート ,  ポリメチルフェニルシラン ,  波長シフト ,  有機無機ハイブリッド薄膜

分類 (3件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  物理的性質一般  (YH02021U)

物質索引 (1件)： トルエン

引用文献 (17件)：

• 1) Y. Chujo, Polym. Mater. Encyclopedia, 6, 4793 (1996).
• 2) 作花済夫, “ゾル-ゲル法の応用”, アグネ承風社 (1997).
• 3) J. Wen and G. L. Wilkes, Chem. Mater., 8, 1667 (1996).
• 4) K. Matsukawa, S. Fukui, N. Higashi, M. Niwa, and H. Inoue, Chem. Lett., 28, 1073 (1999).
• 5) Y. Matsuura, K. Matsukawa, R. Kawabata, N. Higashi, M. Masazo, and H. Inoue, Polymer, 43, 1549 (2002).

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリシラン ,  シリカナノ粒子 ,  薄膜 ,  作製 ,  光学特性