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J-GLOBAL ID：200902296004773584   整理番号：08A0544905

エタノール及びソルビトールストレス下のSaccharomyces cerevisiae中のストレス保護剤の遺伝子発現プロフィル及び細胞内含有量

Gene expression profiles and intracellular contents of stress protectants in Saccharomyces cerevisiae under ethanol and sorbitol stresses

著者 (2件)： KAINO Tomohiro (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  TAKAGI Hiroshi (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN)
資料名： Applied Microbiology and Biotechnology  (Applied Microbiology and Biotechnology)
巻： 79  号： 2  ページ： 273-283  発行年： 2008年05月 
JST資料番号： H0764A  ISSN： 0175-7598  CODEN： EJABDD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エタノール及びソルビトールストレス条件下にSaccharomyces cerevisiaeを曝し,遺伝子発現プロフィルとグリセロール,トレハロース及びプロリンの細胞内ストレス保護剤含有量との相関を調べた。1Mのソルビトールストレスに曝すとグリセロール3-リン酸デヒドロゲナーゼをコードする遺伝子の発現が誘導され,グリセロール蓄積が起こった。9%エタノールに曝すと,トレハロース6-リン酸ホスホリラーゼをコードする遺伝子の発現が迅速に誘導され,トレハロース蓄積が起こった。ソルビトール及びエタノール添加直後に細胞内プロリンレベルは増加せず,これらのストレス条件下ではプロリン生合成及び分解に関与する遺伝子の発現は変わらなかった。本結果はS.cerevisiaeが他の生物とは異なりエタノール及びソルビトールストレス条件に応答してプロリンを蓄積しないことを示唆した。

シソーラス用語： Saccharomyces cerevisiae ,  保護剤 ,  グリセロリン酸デヒドロゲナーゼ ,  ヘキソシルトランスフェラーゼ ,  ストレス ,  *応答 ,  遺伝子発現 ,  細胞内蓄積 ,  脂肪族アルコール ,  ポリオール ,  糖アルコール ,  二糖類 ,  ピラノシド ,  グルコシド ,  アミノ酸 ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： グリセロール3-リン酸デヒドロゲナーゼ ,  *ストレス応答 ,  ストレス保護剤 ,  トレハロース6-リン酸ホスホリラーゼ

分類 (2件)： 微生物に対する影響  (EE05020V) ,  代謝と栄養  (EG03054K)

物質索引 (5件)： エタノール ,  グリセロール ,  ソルビトール ,  トレハロース ,  プロリン

タイトルに関連する用語 (7件)： エタノール ,  Saccharomyces ,  ストレス ,  保護剤 ,  遺伝子発現 ,  プロフィル ,  含有量