CAUBET Pierre について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
BLOMBERG Tom について
ASM Microchemistry Oy, Helsinki, FIN について
BENABOUD Rym について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
WYON Christophe について
Lab. d’Electronique et des Technol. de l’Information/Minatec, Commissariat a l’Energie Atomique, Grenoble, FRA について
BLANQUET Elisabeth について
Univ. Joseph Fourier, Saint Martin d’Heres, FRA について
GONCHOND Jean-Pierre について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
JUHEL Marc について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
BOUVET Philippe について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
GROS-JEAN Mickaeel について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
MICHAILOS Jean について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
RICHARD Claire について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
ITEPRAT Blaise について
STMicroelectronics, Crolles, FRA について
Journal of the Electrochemical Society について
チタン化合物 について
窒化物 について
化学蒸着 について
プラズマCVD について
薄膜成長 について
電気抵抗率 について
膜厚 について
エネルギー依存性 について
時間依存性 について
基板温度 について
化学吸着 について
還元 について
水素 について
成長速度 について
均一性 について
前駆体 について
原子層蒸着 について
窒化チタン について
半導体集積回路 について
テトラキス(ジメチルアミノ)チタン(IV) について
水素 について
還元雰囲気 について
低温 について
低抵抗 について
プラズマ について
原子層蒸着 について
TiN について