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J-GLOBAL ID：200902296251275201   整理番号：07A0383525

リステリアフェリチンによる高密度ナノドット配列埋め込みMOSキャパシタ

著者 (8件)： 山田聖人 (松下電器 先端研) ,  吉井重雄 (松下電器 先端研) ,  熊谷慎也 (松下電器 先端研) ,  三浦篤志 (奈良先端科学技術大学院大) ,  浦岡行治 (奈良先端科学技術大学院大) ,  冬木隆 (奈良先端科学技術大学院大) ,  山下一郎 (松下電器 先端研) ,  山下一郎 (奈良先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 3  ページ： 1440  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フェリチン ,...
準シソーラス用語： *Listeria

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノドット ,  埋め込み ,  MOSキャパシタ