すれすれ入射電子誘起X線放射分光によるLaSi<sub>x</sub>/Si(100)の熱酸化の研究

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J-GLOBAL ID：200902297624997373 整理番号：04A0357214

すれすれ入射電子誘起X線放射分光によるLaSi_x/Si(100)の熱酸化の研究

Study of thermal oxidation of LaSi_x/Si(100) by grazing incidence electron-induced X-ray emission spectroscopy

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資料名：
巻： 135 号： 1 ページ： 47-52 発行年： 2004年03月
JST資料番号： D0266C ISSN： 0368-2048 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

層状化合物内部の化学状態を非破壊的に測定するX線放射分光装置...

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X線スペクトル一般 , 酸化物薄膜

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