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J-GLOBAL ID：200902297901122410   整理番号：03A0849762

異なる温度及び速度で堆積したZrO₂薄膜における残留応力及び微細構造の変化

Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO₂ thin films deposited at different temperatures and rates

著者 (4件)： SHAO S (Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  FAN Z (Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  SHAO J (Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  HE H (Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 445  号： 1  ページ： 59-62  発行年： 2003年11月24日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム蒸発によりガラス基板上に作製したZrO<sub>2...

シソーラス用語： *酸化ジルコニウム ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 堆積 ,  ZrO2 ,  薄膜 ,  残留応力 ,  微細構造