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J-GLOBAL ID：200902299158362012   整理番号：06A0098343

反応性直流マグネトロンスパッタリングにより室温で作製した透明導電性In₂O₃:Mo薄膜

Transparent conductive In₂O₃:Mo thin films prepared by reactive direct current magnetron sputtering at room temperature

著者 (7件)： MIAO Wei-na (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  LI Xi-feng (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Qun (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  HUANG Li (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Zhuang-jian (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Li (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  YAN Xue-jian (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 500  号： 1-2  ページ： 70-73  発行年： 2006年04月03日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モリブデンドープ酸化インジウム(IMO)のアモルファス透明伝...

シソーラス用語： *酸化インジウム ,...

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  非晶質・液体半導体の電気伝導  (BM03042G)

タイトルに関連する用語 (7件)： 反応性 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  室温 ,  作製 ,  導電性 ,  Mo ,  薄膜