洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石山博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-055469
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235300
出願日： 1997年02月25日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】機器部品(ワーク)の洗浄装置において、洗浄効率の向上と、沈殿物の回収、掃除を容易に行なえるようにした洗浄装置に関する。【解決手段】内面1Aに凹所1Bを備える洗浄槽1と、前記凹所1B内に配設され前記洗浄槽1内に向かって洗浄液を噴射するノズル9と、前記洗浄槽1内に収容され外側面に側方へ突出する板体を形成した洗浄かご10と、この洗浄かご10を前記洗浄槽1に対して出し入れする上下動手段14、15、16と、前記洗浄かご10を所定の垂直位置に保持可能な位置制御手段とを有する。

請求項（抜粋）：

内面(1A)に凹所(1B)を備える洗浄槽(1)と、前記凹所(1B)内に配設され前記洗浄槽(1)内に向かって洗浄液を噴射するノズル(9)と、前記洗浄槽(1)内に収容され外側面(21)に側方へ突出する板体(22)を形成した洗浄かご(10)と、この洗浄かご(10)を前記洗浄槽(10)に対して出し入れする上下動手段(14,15,16)と、前記洗浄かご(10)を所定の垂直位置に保持可能な位置制御手段(37)とを有することを特徴とする洗浄装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

工業用洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-064533 出願人：株式会社音戸工作所
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-074050 出願人：安川設備技研株式会社
高洗浄力と浮遊異物の再付着防止機能を備えた洗浄システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-232810 出願人：株式会社日立製作所

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