E×B装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192605
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023564
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】スパッタリングなどのプロセス最中の高い圧力雰囲気で動作させることが可能であり、しかも十分な性能を有し、製作コストの低い質量分析器を提供する。【解決手段】電界形成のための電極と、磁界形成のための磁極あるいは磁石とにより構成され、電界と磁界とを直交させた電磁界空間にて荷電粒子の質量・エネルギー分離を行うE×B装置において、電磁界空間に面した磁極あるいは磁石の表面を、電界を形成させる電極として機能させたことを特徴とするE×B装置。

請求項（抜粋）：

電界形成のための電極と、磁界形成のための磁極あるいは磁石とにより構成され、電界と磁界とを直交させた電磁界空間にて荷電粒子の質量・エネルギー分離を行うE×B装置において、電磁界空間に面した磁極あるいは磁石の表面を、電界を形成させる電極として機能させることを特徴とするE×B装置。

Fターム (2件)：

5C038HH15 , 5C038KK13

引用特許：

審査官引用 (4件)

特表平1-503422
特開平2-201855
ウィーンフィルタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-068540 出願人：日本電子株式会社

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