特許
J-GLOBAL ID：200903000144873659

高周波プラズマCVD装置及びプラスチック製容器

発明者：
中井 和久

中井 和久 について

, 
太田 美恵

太田 美恵 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-334878
公開番号（公開出願番号）：特開2004-169087
出願日： 2002年11月19日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】プラスチック製容器本体の内面の全面にプラズマを加速度を持って衝突させて、十分なガスバリア性の薄膜を形成することができる高周波プラズマCVD装置及び内面の全面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器を提供する。【解決手段】高周波ブラズマCVD装置は、外部電極と内部電極を備え、外部電極はプラスチック製容器本体の主要部よりやや大きめの相似形の空間を有する反応室を備える。内部電極は反応室内に配置され、内部電極は複数の原料ガス吹き出し孔を備える。内部電極には原料ガス供給管が連設され、反応室には真空源が排気管を介して接続され、外部電極には整合器を介して高周波電源が接続されている。内部電極は原料ガス供給管を介して接地され、外部電極の周りには磁石が配置されている。この装置を用いてプラスチック製容器本体の内面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器を得ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
外部電極と内部電極を備え、外部電極は内面に薄膜を被着させるべきプラスチック製容器本体の主要部よりやや大きめの相似形の空間を有する反応室を備え、内部電極は反応室内に配置され、内部電極は中空体からなり、且つ複数の原料ガス吹き出し孔を備え、内部電極には導電性材料からなる原料ガス供給管が連設され、反応室には真空源が排気管を介して接続され、外部電極には整合器を介して高周波電源が接続され、内部電極は原料ガス供給管を介して接地され、外部電極の周りには磁石が配置されていることを特徴とする高周波プラズマCVD装置。
IPC (5件)：
C23C16/505 ,  B32B1/02 ,  B32B9/00 ,  B65D25/14 ,  C23C16/455
FI (5件)：
C23C16/505 ,  B32B1/02 ,  B32B9/00 A ,  B65D25/14 Z ,  C23C16/455
Fターム (35件)：
3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB24 ,  3E062JC01 ,  3E062JD01 ,  4F100AA20B ,  4F100AA37B ,  4F100AK01A ,  4F100AK42A ,  4F100BA02 ,  4F100DA01 ,  4F100EH11 ,  4F100EH66B ,  4F100EK01 ,  4F100GB16 ,  4F100JD03 ,  4K030BA36 ,  4K030BA44 ,  4K030BB00 ,  4K030CA07 ,  4K030CA11 ,  4K030CA15 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030KA16 ,  4K030KA17 ,  4K030KA34 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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