熱燐酸によるエッチング方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-216528
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045660
出願日： 1995年08月03日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】加熱燐酸水溶液による窒化珪素膜の選択的エッチングにおいて、酸化膜/窒化膜に対する選択比の変動を容易かつ高精度に抑えることを可能にする。【解決手段】基板上に窒化珪素膜及び酸化珪素膜が形成された半導体基板を加熱燐酸水溶液により処理して窒化珪素膜を選択的にエッチングする方法において、前記熱燐酸水溶液からなるエッチング液に水及びフッ化水素を連続的又は断続的に添加調整して、前記エッチング液中の燐酸濃度を一定に維持するとともに、フッ素イオン濃度を20〜200mg/lの範囲に維持しながらエッチングを行うものである。

請求項（抜粋）：

基板上に窒化珪素膜及び酸化珪素膜が形成された半導体基板を加熱燐酸水溶液により処理して窒化珪素膜を選択的にエッチングする方法において、前記加熱燐酸水溶液であるエッチング液に水及びフッ化水素を連続的又は断続的に添加調整して、前記エッチング液中の燐酸濃度を一定に維持するとともに、フッ素イオン濃度を20〜200mg/lの範囲に維持しながらエッチングを行うことを特徴とする熱燐酸によるエッチング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , C23F 1/24 , H01L 21/308

FI (3件)：

H01L 21/306 E , C23F 1/24 , H01L 21/308 E

引用特許：

出願人引用 (3件)

エッチング液の精製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-253672 出願人：日曹エンジニアリング株式会社
特開昭60-137024
特開平4-007832

審査官引用 (3件)

エッチング液の精製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-253672 出願人：日曹エンジニアリング株式会社
特開昭60-137024
特開平4-007832

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