特許

J-GLOBAL ID：200903000184665803

電解リン酸塩化成処理方法及び鉄鋼表面に形成される複合皮膜

発明者： 松田 茂樹 ,  西谷 伸
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 碓氷 裕彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359490
公開番号（公開出願番号）：特開2000-234200
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、電解処理に適したリン酸塩化成処理技術を提供するものである。【解決手段】 上記課題を解決するために、リン酸イオンと、硝酸イオンと、リン酸イオンとリン酸塩化成処理浴中で錯体を形成する金属イオンと、リン酸塩化成処理浴中に溶解しているイオンが還元され、金属として析出する電位が、溶媒である水のアノード電気分解反応電位以上である金属イオンとを少なくとも含むリン酸塩化成処理浴であって、この処理浴中には、前記皮膜の成分以外の金属イオンを0〜400ppmとし、かつ皮膜形成反応に影響を及ぼす固形物を実質的に含有しないようにすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

リン酸イオン及びリン酸と、硝酸イオンと、リン酸イオンとリン酸塩化成処理浴中で錯体を形成する金属イオンと、リン酸塩化成処理浴中に溶解しているイオンが還元され、金属として析出する電位が、溶媒である水のアノード電気分解反応電位以上又は-0.83V(水素標準電極電位で表示)以上である金属イオンとを少なくとも含むリン酸塩化成処理浴に、導電性を有する被処理物を接触させ、電解処理することにより、前記被処理物表面に前記リン酸塩と、前記リン酸塩を形成しない金属とを少なくとも含む皮膜を形成する方法であって、前記リン酸塩化成処理浴は、前記皮膜の成分以外の金属イオンを0〜400ppm有し、かつ皮膜形成反応に影響を及ぼす固形物を実質的に含有せず、前記被処理物は、前記リン酸塩化成処理浴にて、リン酸イオンとリン酸塩化成処理浴中で錯体を形成する金属材料と、リン酸塩化成処理浴中に溶解しているイオンが還元され、金属として析出する電位が、溶媒である水のアノード電解分解反応電位以上又は-0.83V(水素標準電極電位で表示)以上である金属材料との間で電解処理される、事を特徴とする電解リン酸塩化成処理方法。

IPC (2件)：

C25D 11/36 ,  C25D 11/36 301

FI (2件)：

C25D 11/36 A ,  C25D 11/36 301

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-036296
  
• 特開平2-153098
  
• リン酸塩化成処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-137833   出願人：日本電装株式会社