特許

J-GLOBAL ID：200903000206625410

不活性雰囲気はんだ付け装置における酸素濃度制御方法およびその装置

発明者： 岡野 輝男 ,  宮本 康夫 ,  飯田 誠 ,  安達 稔
出願人/特許権者： 株式会社タムラ製作所
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-135866
公開番号（公開出願番号）：特開平6-344176
出願日： 1993年06月07日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】 不活性雰囲気中ではんだ付けを行う場合の酸素濃度を限られた範囲内に制御する際の安定性および応答性の向上を図る。【構成】 リフロー用の炉体11に対し、炉内酸素濃度を制御するための不活性ガス注入回路21とエアミックス回路22とを設ける。不活性ガス注入回路21は、液体窒素タンク31から流量調整弁34を経て窒素注入ノズル36に至る。エアミックス回路22は、空圧源41から流量調整弁43を経て空気注入ノズル45に至る。炉体11に炉内雰囲気サンプリング用のチューブ51を挿入する。チューブ51に吸入管路52を経て雰囲気中の酸素濃度を測定する酸素濃度計53を接続する。酸素濃度計53は調節器54に接続する。調節器54は、流量調整弁34,43を制御して窒素ガスおよび空気の流量をそれぞれ制御し、窒素ガスにより炉内酸素濃度を下げ、空気により炉内酸素濃度を上げ、炉内酸素濃度を所望の範囲内に迅速に制御する。

請求項（抜粋）：

不活性ガスを注入した低酸素濃度雰囲気中ではんだ付けをする不活性雰囲気はんだ付け装置において、雰囲気中の酸素濃度を測定しながら、所望の酸素濃度に近づけるために不活性ガスの注入流量をコントロールするとともに、必要に応じて雰囲気中に空気を強制的に供給することを特徴とする不活性雰囲気はんだ付け装置における酸素濃度制御方法。

IPC (5件)：

B23K 31/02 310 ,  B23K 1/008 ,  B23K 1/08 320 ,  G01N 27/26 361 ,  H05K 3/34 507

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-356349
  
• 半田付け用加熱炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-186987   出願人：古河電気工業株式会社