特許
J-GLOBAL ID：200903000218718316
レチクルを保護する2部分カバーを用いるシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046630
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257852
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：
【要約】【課題】 マスクが空中浮遊粒子によって汚染することから保護するシステムおよび方法が用いられる。【解決手段】 これらのシステムおよび方法は、2部分カバー内に固定されるレチクルを提供する工程を包含する。2部分カバーは、レチクルを汚染から保護するために用いられる除去可能な保護デバイスを備える。カバーは、ポッドまたはボックスの内側で保持され得る。ポッドまたはボックスは、カバーをリソグラフィシステムを通って大気セクションから真空セクションに移送するために用いられ得る。真空セクションにある間、除去可能なカバーが露光プロセス中に移動され得る。この露光プロセス中に、レチクル上のパターンがウェハ上に形成され得る。
請求項（抜粋）：
レチクルと、該レチクルを保護するために該レチクルと結合されたカバーと、を備え、該カバーは、フレームと、露光プロセスの間、該レチクルに光が直接的にアクセスすることを可能にするように移動する、除去可能なパネルと、を備えるシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
2H095BB11
, 2H095BB29
, 2H095BB33
, 5F046GD20
