特許
J-GLOBAL ID:200903000219945600
光ファイバ増幅器
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-305614
公開番号(公開出願番号):特開平11-145539
出願日: 1997年11月07日
公開日(公表日): 1999年05月28日
要約:
【要約】【課題】 短尺化されると共に実用性に優れたエルビウム添加光ファイバ(EDF)を備えて、所望の平坦化した利得を得ることができる光ファイバ増幅器(EDFA)を提供する。【解決手段】 エルビウム添加光ファイバ飽和手段8a,9aによって、EDF1を強く飽和させ、信号光の波長略1570〜略1600nmの範囲において、利得を平坦化した光増幅を行うと共に、このとき、コア領域及びクラッド領域の双方にエルビウムを添加していることで、信号光とエルビウム添加部分との重なり合い部分を大きくして、単位長さ当たりの利得を増やすようにし、EDF1の長さを長くして利得の増加を図るという必要をなくして、EDF1の短尺化を図ると共に、EDF1の長さの短尺化を図るべくホストガラスに例えばフッ化物ガラスを用いるという必要をなくして、EDF1を実用性に優れたものする。
請求項(抜粋):
所定の基準軸に沿って伸びたコア領域、当該コア領域の外周に設けられたクラッド領域、前記コア領域及び前記クラッド領域の双方にエルビウムを添加することにより構成したエルビウム添加部を有するエルビウム添加光ファイバと、このエルビウム添加光ファイバの入力側及び出力側の少なくとも一方側に接続されたWDMカプラと、このWDMカプラに接続された励起用光源と、前記エルビウム添加光ファイバを飽和させ、信号光の波長略1570nm〜略1600nmの範囲において、光ファイバ増幅器の利得を平坦化するエルビウム添加光ファイバ飽和手段と、を具備したことを特徴とする光ファイバ増幅器。
IPC (5件):
H01S 3/10
, G02B 6/00
, G02B 6/22
, H01S 3/07
, H01S 3/17
FI (5件):
H01S 3/10 Z
, G02B 6/22
, H01S 3/07
, H01S 3/17
, G02B 6/00 E
引用特許:
審査官引用 (4件)
-
ドープファイバ、そのスプライシング方法及び光増幅器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-004287
出願人:富士通株式会社
-
光増幅器用ファイバ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-156508
出願人:日本電信電話株式会社
-
特開平4-291972
引用文献:
審査官引用 (1件)
-
Flat gain Erbium-doped fiber amplifier in 1570nm-1600nm region for dense WDM transmission systems
前のページに戻る