特許
J-GLOBAL ID:200903000223933020

回折光学素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-296518
公開番号(公開出願番号):特開2000-121819
出願日: 1998年10月19日
公開日(公表日): 2000年04月28日
要約:
【要約】【課題】 RIEを用いた加工工程において、難加工性材料を使用した場合にも再現性及び加工精度に優れた微細溝構造を有する回折光学素子を提供すること、及び加工工程におけるエッチングレートが早く、素子設計の自由度に富む構造を有する回折光学素子を提供することである。【解決手段】 ミクロンオーダの微細溝構造による光の回折効果を利用した回折光学素子において、該回折光学素子が光学的に透明である基板片面または両面に透光性薄膜を有し、該透光性薄膜に微細溝構造が形成され、透光性薄膜の厚みと微細溝構造の溝ピッチの関係が0.1<溝ピッチ/透光性薄膜の厚み<50であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
ミクロンオーダの微細溝構造による光の回折効果を利用した回折光学素子において、該回折光学素子が光学的に透明である基板片面または両面に透光性薄膜を有し、該透光性薄膜に微細溝構造が形成され、透光性薄膜の厚みと微細溝構造の溝ピッチの関係が0.1<溝ピッチ/透光性薄膜の厚み<50であることを特徴とする回折光学素子。
IPC (2件):
G02B 5/18 ,  G02B 5/32
FI (2件):
G02B 5/18 ,  G02B 5/32
Fターム (9件):
2H049AA37 ,  2H049AA43 ,  2H049AA44 ,  2H049AA45 ,  2H049AA48 ,  2H049AA57 ,  2H049AA65 ,  2H049CA15 ,  2H049CA20

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