特許
J-GLOBAL ID：200903000267994779
ポリッシング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-155946
公開番号（公開出願番号）：特開平10-058308
出願日： 1997年05月29日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【課題】 被研磨物を保持するトップリングの姿勢を制御することにより、被研磨面の面圧分布を最適の状態にして研磨を行なうことができるポリッシング装置を提供する。【解決手段】 研磨面1を有するターンテーブル2と、被研磨物Wを保持するトップリング3を具備し、両者を回転させながら研磨面と被研磨物の被研磨面を摺動させて研磨するポリッシング装置において、トップリングの回転軸12をスラスト軸受13とラジアル軸受14,15により支持する磁気軸受装置10と、該磁気軸受を制御することによりトップリングのターンテーブルに対する姿勢を制御する姿勢制御手段31,32を設けた。
請求項（抜粋）：
研磨面を有するターンテーブルと、被研磨物を保持するトップリングを具備し、両者を回転させながら研磨面と被研磨物の被研磨面を摺動させて研磨するポリッシング装置において、前記トップリングの回転軸をスラスト軸受とラジアル軸受により支持する磁気軸受装置と、該磁気軸受を制御することにより前記トップリングの前記ターンテーブルに対する姿勢を制御する姿勢制御手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。
引用特許：
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