特許

J-GLOBAL ID：200903000282404660

プラズマ処理装置

発明者： 田代 征仁 ,  奥村 裕
出願人/特許権者： 株式会社エフオーアイ
代理人 (1件)： 佐藤 香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-119717
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313875
出願日： 2001年04月18日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】多様なプロセスに適用でき而も設置面積が少なくて済むプラズマ処理装置を実現する。【解決手段】プラズマ処理用等の真空チャンバ2が放射状に又は扇状に横から連結されている要の真空チャンバ3に、チャンバ間での基板移送を行う基板移送機構4が設けられているプラズマ処理装置において、基板移送機構4が基板を縦にして移送する。また、円筒状詰物6を回転可能に付設し、それには基板を収納可能な又は通過可能な板状切込6aを形成する。さらに中空部6cも形成する。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理用の真空チャンバを一個以上含んだ三個以上の真空チャンバが放射状に又は扇状に横から連結されている要の真空チャンバに、チャンバ間での基板移送を行う基板移送機構が設けられているプラズマ処理装置において、前記基板移送機構が基板を縦にして移送するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B

Fターム (21件)：

5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031FA18 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA09 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA09 ,  5F031NA18 ,  5F031PA26 ,  5F045AA08 ,  5F045EN04 ,  5F045HA21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板搬送システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-260579   出願人：ゼテック株式会社
• 基板処理装置及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-037147   出願人：シャープ株式会社