特許

J-GLOBAL ID：200903000307494219

現像方法および現像装置

発明者： 住田 圭介 ,  日比野 純一 ,  大谷 光弘 ,  芦田 英樹 ,  藤原 伸也 ,  丸中 英喜 ,  仲川 整
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-316176
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124452
出願日： 2000年10月17日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 感光性材料の現像液濃度変化によるパターニング不良を解決し、精度の高い厚膜パターン形成方法と、その製造装置、および、それらを用いた表示装置を提供する。【解決手段】 アルカリ性あるいは酸性の現像液を用いる現像方法であって、現像液中のアルカリ成分あるいは酸性成分濃度を計測し、所定の濃度からの濃度変化を算出し、変化に相当するアルカリ成分あるいは酸性成分を補給し現像液濃度を任意の濃度幅に制御し現像を行う現像方法である。

請求項（抜粋）：

アルカリ性あるいは酸性の現像液を用いる現像方法であって、現像液中のアルカリ成分あるいは酸性成分濃度のすべてを、あるいは一部を計測し、所定の濃度からの濃度変化を算出し、変化に相当するアルカリ成分あるいは酸性成分を補給し現像液濃度を任意の濃度幅に制御し現像を行う現像方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 D

Fターム (8件)：

2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096GA08 ,  2H096GA60 ,  2H096LA30 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-158269   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• レジストパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-372545   出願人：関西ペイント株式会社