特許

J-GLOBAL ID：200903000353278032

レーザー焼き付け方法およびそれに用いるマスクホルダ

発明者： 植山 公助 ,  田中 啓司 ,  西山 泰史 ,  岡野 達広
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140559
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347998
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】レーザー照射に対する耐性を高くしレーザー焼き付け用マスクの寿命を延ばし、また遮光パターンが他と分離された島状パターンであっても分離されたとおりに照射パターンを得られるレーザー焼き付け方法とマスクホルダを提供する。【構成】パターンの設けられたマスクを介してレーザー照射を行い基材に焼き付けする際に、マスクホルダが形成する流路に冷却媒体を流してマスクを冷却することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

パターンの設けられたマスクを介してレーザー照射を行い基材に焼き付けするレーザー焼き付け方法において、レーザー照射の際に冷却媒体により該マスクを冷却することを特徴とするレーザー焼き付け方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-302129
  
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-152950   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平4-302129