特許
J-GLOBAL ID:200903000361850438
二光子吸収材料
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-369795
公開番号(公開出願番号):特開2005-132763
出願日: 2003年10月30日
公開日(公表日): 2005年05月26日
要約:
【課題】 巨大な二光子吸収断面積を有し、低濃度で高い二光子吸収特性を発揮し得る新規な化合物を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(1)で表されるエチレン系化合物;【化1】(式中、R1〜R8は、それぞれ同一又は相異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を示し、R9及びR10は、それぞれ同一又は相異なって、ピリジル基又はピリジニウム塩基を示し、nは1〜4の整数を示す。)。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるエチレン系化合物;
IPC (3件):
C07D213/53
, C09B23/00
, C09B69/06
FI (3件):
C07D213/53
, C09B23/00 L
, C09B69/06
Fターム (13件):
4C055AA01
, 4C055BA01
, 4C055CA01
, 4C055DA06
, 4C055DA25
, 4C055EA01
, 4C055GA01
, 4H056CA02
, 4H056CA05
, 4H056CB03
, 4H056CC02
, 4H056CE03
, 4H056DD04
引用特許:
引用文献:
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